图书：《巨峰科技-半导体工艺》

文章：硅片清洗技术的演进

编号：JFKJ-21-211

作者：巨峰科技

介绍？

？超净硅是通过对硅表面进行清洗和表面处理来制备的。 1993 年集成电路制造条件发生了相当大的变化。 ?这些变化的驱动力不断提高，对生产高性能先进硅器件的要求、可靠性和成本。 ?这些电路的特征尺寸已经扩大。在 100 纳米以下，器件结构可以包括带有铜（铜）和特殊介电材料的多层金属化层。

晶圆表面清洁和调理的重要性？

??在半导体微电子器件的制造过程中，清洗基板表面的重要性从固体的出现就开始了。得到了认可。 1950年代的国家装备技术……因此，超净硅片的制备成为一项重要的技术。

前端加工表面处理技术要求（一） : 最近的进程

晶圆清洗及表面处理技术??稍微

文章来源：《测绘科学技术学报》 网址: http://www.chkxjsxbzz.cn/zonghexinwen/2021/0814/700.html